随着发展，目前市场上新材料行业与传统材料相比，其应用范围更广了，新材料产业的研究与开发成本高，产品的附加值高在生产与市场性强，而且新材料半导体行业的发展前景好。

而新材料半导体行业在加工的过程中采用清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂，这些溶剂中含有大量的有机物成分，在整个工艺加工的过程中将会有部分的有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放，这部分挥发的废气主要成分为具有挥发性的VOCs，下面讲解一下关于：新材料半导体废气处理。

新材料半导体行业废气除了含有VOCs以外，还混有HCl、氨、HF等危险污染物，采用的是RTO焚烧炉来处理新材料半导体废气：工业废气中主要含有酸性气体、碱性气体、有机废气和有D气体四种，自身具有的溶解特性，半导体工业的气体虽然排放量大，但是气体的浓度低。

RTO设备采用的是高温焚烧的废气治理技术，升温能源一般是电和天然气，其高温需高达700度或者以上，虽然温度需高达700度左右，但是其实消耗的能源并不多，设备运行期间部分的热能是能够回收重新利用的，降低能量消耗的同时提高了废气分子的燃烧反应速率。

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